DISPLAY 設備

DISPLAY用COATER DEVELOPER LINE(面板顯示器用塗布顯影設備)

塗布顯像設備SK系列

COATER DEVELOPER SK series

SK系列

世界銷售實績第一的大型TFT ARRAY製程用塗布顯像設備,可對應基板G4以上。

塗布方式可採用線性塗布或是氣浮方式。

SK-N系列

在大型ARRAY用的實績基礎所開發出高規格設備,

可對應生產LTPS(低溫多晶矽)、TFT等的高精細面板。

SK-E系列

長年累積之液晶顯示器用塗布顯影機經驗所開發出特規設備,可對應生產OLED面板。

FLEXIBLE DISPLAY 用 PI COATER LINE

應用於量產顯示器之PI基板

Enables Mass Production of High-Quality Flexible Substrates

SK-P 系列

用以特化Flexible基板用Polyimide材料的設備。

配有可以處裡大尺寸玻璃基板的洗淨機~Polyimide材料的塗布~乾燥為止的一連貫製程,可快速提升量產的生產性。

手動式塗布設備RESEARCH COATER

可多樣性對應塗布條件以及材料
實現高精密塗布均一性之小型塗布設備

Supports a wide range of coating conditions and materials, achieving exceptional coating uniformity!

LC-R300G/LC-R400G 系列

是一台能夠廣泛對應各種塗布條件或材料,並實現高精度的塗布均一性的Slit式塗布設備。

依據選定的設備尺寸,可以設置(選配)環境控制Chamber,使之可以在控水氧的環境下進行塗布實驗。

DISPLAY用WET LINE(面板顯示器用濕式設備)

大型TFT ARRAY 製程
所採用之WET設備

Tried and true wet processing systems for large TFT arrays

TS系列

枚葉式洗淨設備,採用傾斜搬送方式以及複合洗淨方式可實現優越的PARTICLE去除。

TE系列

枚葉式濕式蝕刻設備,採用各種Spray+Nozzle可選擇傾斜或是水平搬送方式可實現優越的蝕刻處理。

TR系列

枚葉式光阻剝離設備,採用Multi Scan Jet剝離工具以及傾斜式搬送方式可實現高強度剝離性能。

TD系列

枚葉式顯像設備,可選擇Dip、Spray、Paddle處理方式可實現顯影的均一性。

枚葉式SPUTTER設備

搭載高密度Plasma之真空成膜設備

Vacuum CVD deposition with LIA hight-density plasma source

VS系列

運用Low Inductance Antenna(LIA™)Plasma技術技術結合敝社在大型機板上的搬送技術,延伸進展為對基板低Damage且能生成高密度的CVD或Sputter等處理設備。